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水冷拋光機(jī)包括底座、7906、拋光布、拋光蓋和蓋的基本組成部分。電機(jī)固定在底座上，固定盤(pán)與電機(jī)軸連接。拋光織物通過(guò)對(duì)研磨盤(pán)電機(jī)通過(guò)電源開(kāi)關(guān)的基礎(chǔ)開(kāi)始后緊固套圈，對(duì)樣品施加的壓力在拋光盤(pán)拋光旋轉(zhuǎn)可用手。拋光過(guò)程中加入的拋光液通過(guò)固定在塑料排水管底板在水下拋光機(jī)的方盤(pán)。拋光罩和蓋可以防止拋光織物上的灰塵和其它雜物，而不在使用時(shí)的效果。

水冷式拋光機(jī)操作的關(guān)鍵是要盡量獲得最大的拋光速度，以便盡可能快地去除損壞的層。同時(shí)，它也是為了使拋光損傷層不會(huì)影響最終觀察組織，即不會(huì)造成假組織。前者要求采用粗磨粒，以保證拋光速度有較大的去除，但拋光損傷層較深；后者則要求使用最優(yōu)質(zhì)的材料，使拋光損傷層較淺，但拋光率低。解決這個(gè)問(wèn)題的最好辦法就是把拋光分為2個(gè)階段。粗拋光的目的是去除拋光損傷層，這一階段應(yīng)具有最大的拋光速率，表面損傷是次要考慮，但也應(yīng)盡可能小；二是拋（或結(jié)束），目的是去除表面損傷，使拋光損害最小。

當(dāng)水冷拋光機(jī)時(shí)，磨面和拋光盤(pán)應(yīng)絕對(duì)平行，并均勻地輕壓在拋光盤(pán)上，注意防止試樣飛出，壓力過(guò)大，產(chǎn)生新的磨削痕跡。同時(shí)，要避免在織物上的局部磨損，在旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)輪和半徑的移動(dòng)。濕度太過(guò)一般會(huì)削弱拋光磨痕和試樣在硬質(zhì)相顯示浮雕和鋼中的非金屬夾雜物在鋼和鑄鐵石墨相“尾隨”現(xiàn)象；濕度過(guò)小，由于摩擦熱會(huì)使樣品溫度，減少潤(rùn)滑，研磨失去光澤，甚至點(diǎn)，輕合金會(huì)傷害表面拋光。

為了達(dá)到粗拋的目的，轉(zhuǎn)盤(pán)的速度要求較低，最好不要超過(guò)500r/min；拋光時(shí)間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕的時(shí)間更長(zhǎng)，因?yàn)樗�也有必要消除變形��。�?jīng)過(guò)水冷拋光機(jī)的打磨光，但在顯微鏡下用強(qiáng)烈的黑暗無(wú)光，穿上均勻，拋光被淘汰。精細(xì)拋光適當(dāng)增加速度刻度盤(pán)，拋光時(shí)間，以除去損壞的粗糙拋光層是適當(dāng)?shù)�。�?jīng)過(guò)精磨拋光后，它就亮如鏡，在明場(chǎng)顯微鏡下的情況下看不到劃痕，但在對(duì)比的照明條件下，仍能看到磨痕。